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Croissance Sélective d'Al2O3 sur des Amas de Platine Sélectionnés en Fonction de la Taille par Dépôt de Couches Atomiques

By Timothy Gorey and others at
LogoUniversity of Utah
En catalyse hétérogène, le dépôt de couches atomiques (ALD) a été développé comme un outil pour stabiliser et réduire le dépôt de carbone sur les nanoparticules supportées. Ici, nous discutons de l'utilisation de l'ALD sous vide poussé pour déposer des films d'alumine sur des catalyseurs de modèle Pt/SiO2 sub-nanométriques sélectionnés... Show more
August 15, 2019
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